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长鑫科技第六代DRAM工艺平台完成工程样片验证

2026-11-2 10:01| 发布者: admin| 查看: 8| 评论: 0

摘要: 长鑫科技在第三季度业绩交流会中透露,在4F²垂直沟道DRAM(动态随机存取存储器)架构取得关键突破的基础之上,第六代工艺技术平台已完成工程样片的验证。此次是长鑫首次宣布第六代工艺技术平台是基于4F²架构。 ...
据财联社消息,日前,长鑫科技在第三季度业绩交流会中透露,在4F²垂直沟道DRAM(动态随机存取存储器)架构取得关键突破的基础之上,第六代工艺技术平台已完成工程样片的验证。此次是长鑫首次宣布第六代工艺技术平台是基于4F²架构。

长鑫科技此次落地的4F²架构,是全球DRAM产业公认的下一代核心技术路径。长鑫科技第六代DRAM工艺平台完成工程样片验证,标志着国产存储从产能追赶正式迈入架构创新的新阶段,也成为近年来国内DRAM产业加速突破的标志性事件。在AI算力爆发、全球存储景气周期持续上行的背景下,国产DRAM产业正依托技术攻关、政策扶持和市场需求三重红利,走出一条自主可控的成长路径。

作为算力底座,存力建设相关政策将持续为国产存储产业提供政策侧支撑。“十五五”规划强调半导体全产业链自主可控,DRAM作为存储核心品类,是政策重点支持方向,国产存储的扩产、工艺迭代,契合国内供应链自主的长期战略目标。

展望后市,本轮存储景气周期和过往由消费电子库存主导的行情存在本质差异:AI服务器单机存储搭载量远高于传统服务器,海外头部厂商将大部分可调配产能向HBM倾斜,传统通用DRAM供给持续收紧,机构测算全球DRAM供需缺口在2027年将进一步扩大,行业高景气度大概率延续至2027年下半年。行业景气周期之下,海外大厂供给偏紧,给国产产品留出宝贵的市场窗口期。

具体到A股市场,随着长鑫等本土龙头的产能持续释放,上游刻蚀、沉积等核心工序的设备材料国产化率显著提升,本土封测、接口芯片、存储模组等环节也将持续受益于扩产订单释放。叠加国内云厂商大额长期供货协议的落地,国产DRAM在服务器、消费电子、汽车电子等场景的渗透率将持续提升,在供应链安全与行业景气的双重加持下,整条存储产业链的成长确定性进一步增强。


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