至少以下三方面的技术趋势将推动刻蚀设备的用量和重要性提升：1.光刻多重图案化路线的采用；2.三维堆叠存储和近存计算需求；3.底层晶体管结构升级。长期看，半导体设备国产化方向明确，短期来看，下游扩产有望驱动行业进入新一轮增长期。建议关注国内刻蚀设备厂商以及相关配套设备、零部件企业机会。 生产刻蚀设备上市公司 刻蚀设备概念股一览如下： 1、中微公司688012 国内集成电路、LED用刻蚀机龙头,公司已有的ICP刻蚀设备可以满足55m,40m和28纳米逻辑芯片制造中的IC刻蚀工艺，以及在更先进的逻辑芯片、DRAM、3DNAND存储芯片和特色器件等芯片制造中不断拓展可刻蚀应用范围。 2、神工股份688233 业界领先的集成电路刻蚀用单晶硅材料供应商 中微公司立足刻蚀设备进行三维发展，各大产品线同步推进 公司将通过外延内生实现三维发展。具体来看：第一维，从刻蚀设备拓展到薄膜沉积、检测等其他集成电路关键设备领域；第二维，公司拓展在泛半导体领域设备应用，如显示、MEMS、功率器件、太阳能领域等关键设备；第三位，公司利用自身核心技术探索其他新兴领域如环境保护、设备网络。 从具体产品开发进度来看，2022-2024年，主打产品刻蚀设备方面，公司继续精进，2022年推出用于大马士革与HAR Etch的CCP设备，未来继续推出新型的刻蚀设备。薄膜沉积设备方面，用于泛半导体领域的MOCVD设备拓展功率器件、Mirco LED应用，集成电路领域LPCVD设备已有良好进展，将快速推进，并推出EPI、ALD产品。其他设备方面，集成电路领域2023年推出检测设备，泛半导体领域2024年拓展光伏设备和大面积显示设备。 公司通过对外投资的方式进行外延生长，积极参股泛半导体设备以及产业链上游公司 公司通过参股方式进行平台化布局，包括其他环节半导体设备、泛半导体设备、半导体材料和半导体零部件。半导体设备企业包括睿励仪器和拓荆科技，睿励仪器为国内领先的前道工艺检测设备供应商，产品覆盖光学膜厚测量设备、光学缺陷检测设备等，公司在3月10日增资后持股比例达到29.36%，拓荆科技是国内领先的化学薄膜沉积设备厂商，产品包括PECVD、SACVD、ALD设备，公司截至2021年底持股比例为4.22%。另外，公司积极投资泛半导体设备公司，包括理想万里晖、德龙激光等，除了设备端，公司还参股了半导体材料与零部件公司，横向、纵向同时延伸，形成平台化布局。 |
