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ASML极紫外光刻机迭代, “倒逼”中国光刻机产业链国产化提速(附概念股) ...

2025-12-16 09:11| 发布者: admin| 查看: 6| 评论: 0

摘要: 阿斯麦(ASML)CEO表示,公司为High-NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)所设计的光刻改进方案已得到验证,成像效果极佳,分辨率非常出色。报道称,阿斯麦将与客户密切配合,确保High-NA EUV在明年内实现停机时间降至 ...
阿斯麦(ASML)CEO表示,公司为High-NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)所设计的光刻改进方案已得到验证,成像效果极佳,分辨率非常出色。报道称,阿斯麦将与客户密切配合,确保High-NA EUV在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。ASML预计,High-NA EUV将在2027至2028年间实现大规模量产。

当前,全球光刻机市场仍由ASML(占比超过八成)、佳能(一成左右)、尼康(不到一成)垄断,但竞争逻辑正在改变:就在海外光刻机技术迭代的同时,受制于“光刻机封锁”的中国在需求与政策双重驱动下,也在加快光刻机、光刻胶相关产品国产化的进度。

作为“十四五”重点发展产业,光刻机已获得政策面大力扶持:设立国家集成电路产业基金,对光刻机研发给予最高50%的补贴,重点支持EUV光源、双工作台等核心技术攻关;光刻机企业所得税率降至10%,进口关键零部件关税减免,研发费用加计扣除比例提升至150%;支持高校开设光刻机相关专业。

对此,ASML的CEO承认“中国已经在很多领域实现自主研发了,假以时日,他们甚至可能反过来向我们出口这些产品。”

中研普华预计,2025年全球光刻机市场预计突破315亿美元,中国贡献22%的份额,年增速达50%,是全球平均水平的5倍。

展望后市,2025-2030年,中国光刻机市场将经历从“技术突围”到“生态重构”的质变。华尔街巨头预计,AI基础设施投资热潮将持续至2030年,规模高达3-4万亿美元。SEMI预测这将拉动半导体市场在2030年达到1万亿美元。这将直接刺激光刻机/光刻胶相关产品市场高增长。

具体到A股市场,光刻机/光刻胶国产化进程加速,A股相关企业将直接受益于技术突破与市场扩张。可关注技术领先、政策受益的龙头企业。

ASML极紫外光刻机迭代, “倒逼”中国光刻机产业链国产化提速(附概念股)如下:
1、旭光电子(600353)
据2025年3月29日业绩说明会,公司电子管作为大功率射频电源的核心器件,具有负载能力强、能接受大功率环境的特点。公司作为国际先进的大功率电子管生产企业,已生产定型百余种的全系列产品。目前部分产品已在可控核聚变及光刻机领域实现销售供货。

2、688409富创精密
公司已进入全球光刻机龙头ASML供应链体系。

3、002338奥普光电
公司2021年6月9日在投资者互动平台表示,大股东长光所研发光刻机的曝光系统,曝光系统是光刻机的一个核心部件。

4、688167炬光科技
公司光场匀化器性能卓越,应用于国内主要光刻机研发项目和样机中,进入ASML、台积电等厂商的供应链

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