日前，比利时微电子研究中心（IMEC）已成功利用阿斯麦最先进的极紫外光刻（EUV）设备，实现了纳米孔的全晶圆级制造。 此次，IMEC利用EUV设备实现纳米孔全晶圆级制造，标志着光刻技术从逻辑芯片向生物传感等新兴领域拓展，进一步扩大了相关设备应用场景。 近年来，中国也在EUV相关领域加大研发。 世界半导体贸易统计组织（WSTS）日前发布的最新预测显示，2025年全球半导体营收有望同比增长22.5%至7720亿美元，2026年将再增长26.3%，达9750亿美元。上述两项数据，较今年6月的预测都有大幅提高。这一迅猛增长的势头有望拉动光刻机/光刻胶相关需求同步高增长。 展望后市，中商产业研究院统计，2024年全球光刻机市场已经增长至315亿美元。据测算，2025年中国芯片市场规模预计达1.2万亿元，年复合增长率超15%。全球光刻胶市场2025年规模预计突破百亿美元，其中EUV光刻胶需求占比显著提升。为国内企业提供广阔替代空间。 具体到A股市场，光刻技术突破与国产替代政策共振，为A股相关板块带来结构性机会。可关注技术领先、政策受益明确的龙头企业。 EUV应用场景进一步扩大，有望拉动光刻机/光刻胶需求高增长（受益概念股）如下： 汉钟精机：公司是国内真空设备龙头公司。 至纯科技：公司半导体清洗设备工艺业内领先。 |
